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中国要跟别人7nm光刻机,半导体设备为什么我们做不


发布时间:2019-07-26 14:00:31 点击量:

[文章导读]:今天,据荷兰媒体报道,全球大的芯片机制造商AMSL,中芯国际发布了其首批订单,购买了新的EUV(极紫外)技术光刻

今天,据荷兰媒体报道,全球大的芯片机制造商AMSL,中芯国际发布了其首批订单,购买了新的EUV(极紫外)技术光刻机,该机价格为1.2亿欧元,今年交付。前段时间,它确实是每个人的“核心”。每个人都希望中国的芯片能够发展并能够摆脱对外国的依赖。这将节省很多钱。确实,中国进口的芯片数量超过石油,甚至超过了军费开支。一年的费用。
7nm光刻机
但一直以来,芯片的发展都离不开人才 技术的 设备,而中国在这三方面都缺乏,而设备中重要的是你不能买光刻机,因为它被禁止但是作为顶的光刻机制造商ASML表示没有禁运。
 
根据权威分析,中国的技术不能支持使用新的光刻机。由于国内主流芯片制造技术仍处于28nm,从ASML找到7nm工艺光刻机并不浪费钱吗?当达到技术时,有必要购买。毕竟,它并不便宜。
 
那为什么我们泱泱大国,不去自己生产制造光刻机或者生产里面的芯片呢?大家都知道现在航空的发动机和光刻机代表了国际科技发展的TOP水平。现在我们中国的航空神器已经有了很大的增长。但是我们的光刻机技术却卡在了核心上面。首先给大家说一下什么是光刻机,原理实际跟照相机差不多,不过他的底片是涂满光刻胶的硅片。各样的电路图经过微投影曝光到光刻胶上,光刻胶的曝光部分跟硅胶进行反应,将其永久的刻在硅片上。这样的光刻机一般叫前道光刻机。由于前道的技术极端复杂,因为这个行业的技术非常高,ASML占据了大部分市场份额,日本的光刻机公司有尼康跟佳能基本退出市场。就连科技为主导的美国也不能独立生产出前道光刻机。
   事实上,早在1971年,中国清华大学精细仪器系就成功开发出了“激光干涉定位自动步进 - 重复相机”,这是前步进的原型。那时,目前的光刻巨头ASML还没有建立起来。可以说它与欧美的光刻技术处于同一水平。 20世纪80年代以后,随着国家放慢对半导体产业的支持,它面临着国际半导体的快速发展。在这个行业中,中国远远落后。
前道光刻机
进入21世纪后,中国重新开发了原光刻机的研发工作,并成立了专门的研发公司<!DOCTYPE上海微电子设备有限公司(SMEE)。那时,外国公司傲慢地说,“即使你把所有的图纸和组件都给你,你也不能组装它们。”上海微电子设备有限公司进行了集成创新,终于2007年开发出中国首台90nm高端投影光刻机,成为世界上四家掌握高端光刻技术的公司。根据公开信息的披露,由于原型使用了大量的外键组件进行集成,在得知光刻机是在中国开发后,外国公司默认对关键部件实施禁运,原型成为展示,不能投入商业生产。该公司不得不投资于低技术后封装光刻机和平板显示光刻机的产品开发,并成功占领了国内80%的封装光刻机,解决了公司的生存危机,但中国的关键问题是芯片生产尚未解决。

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